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            Q 150

            典型應用:

            等離子去膠,適合于研發、實驗室和小批量生產。

            ? 去除光刻膠
            ? 干刻或濕刻處理前或后

            ? SU-8或其他環氧基樹脂

            ? MEMS制造中去除犧牲層

            • 商品介紹
            • 規格參數
            • 技術規格:

              ?等離子源:2.45Ghz微波等離子源,600W
              ?腔體    :石英.φ150mm,長260mm,6L

                         適用于Wafer最大100mm(4英寸)批量生產

              ?外觀尺寸:長500mm,寬570mm,高370mm
              ?處理氣體:2路氣體+數字MKS流量控制器
              ?真空腔門:抽屜式門+觀察窗
              ?觀察窗  :UV與微波屏蔽保護
              ?GUI 7"觸摸屏,Window CE操作系統

              選項:
              ?進口干泵系統(含相關附件)

              ?法拉第籠

              ?石英舟

              ?信號燈塔-紅黃綠三色
              ?額外的處理氣體線路-最多至4路氣體
              ?包裝,運輸

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