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            ALPHA Plasma等離子去膠機處理前后效果對比

            2017-04-19

            本次測試采用ALPHA Plasma 微波等離子去膠機Q150。

            有考慮采用微波等離子去膠機Q235和Q240的客戶也可參考。


            1、Wafer 表面涂膠前預處理

            等離子清洗處理前(水滴角約 75 度)- 石英片

            Alpha plasma等離子清洗1分鐘以后(水滴角0度)

            2.Wafer晶圓去膠

            A.  Alpha plasma微波等離子去膠前后對比 ( 3um 光刻膠) - 玻璃片

                 微波等離子去膠后                                          微波等離子去膠去膠前

            B.  去膠前后對比 3.2um 光刻膠 – SiC                     

                                     微波等離子去膠后                                                                               微波等離子去膠前

            C.  去膠前后對比- 硅片 3inch 硅 wafer

                                            微波等離子去膠前                                                            微波等離子去膠去膠后


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