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            微波等離子去膠機用于光刻膠的去除

            2014-06-09

            1. 光刻膠的去除


                  微波等離子清洗相比其他技術形式的等離子清洗方式,有著一致性高,對產品無害,清洗徹底的優點。在光刻膠的去除應用中,微波等離子清洗可以相當容易完成,而且完成效果很好。

            2. SU-8的去除/ 犧牲層的去除


                  Alpha Plasma Asia微波等離子清洗設備可以輕松完成對SU-8光刻膠的安全清除。有研究所實驗室以及生產應用的大量案例證明微波等離子清除SU-8和犧牲層是非常成功的。

            3.高分子聚合物的去除


                  只需要通過Alpha Plasma Asia微波等離子清洗設備的簡單處理,就能通過微波產生的自由基將高分子聚合物完全清除干凈,包括在很深且狹窄尖銳的溝槽里的聚合物。達到其他清理方式很難完成的效果。

            4.等離子Descum 去除殘膠/去浮渣/打底膜


                  我們都知道一個物理常識,如果孔洞轉角尖銳,金屬液體是很難流進去的。那是因為尖銳的轉角增加了它表面的張力,從而影響了金屬液體流動。而等離子Descum可以將很深洞中或其他很深地方將光刻膠的殘留物去除掉。



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